Rozdelenie 10 miliárd dolárov! Štát New York v USA vybuduje Centrum extrémnej ultrafialovej litografie NA

11. decembra miestneho času americký štát New York oznámil partnerstvo so spoločnosťami ako IBM, Micron, Applied Materials a Tokyo Electron s cieľom investovať 10 miliárd dolárov do rozšírenia komplexu Albany NanoTech v štáte New York, čo z neho v konečnom dôsledku urobí vysoko numericko-apertúrne extrémne ultrafialové (NA - EUV) litografické centrum na podporu najkomplexnejšieho a najvýkonnejšieho výskumu a vývoja polovodičov na svete.
Výstavba nového zariadenia s rozlohou 50,{1}}štvorcových stôp, ktorá sa má začať v roku 2024, predstavuje investíciu vo výške 10 miliárd USD, od ktorej sa očakáva, že pomôže vybudovať prvé a jediné verejne vlastnené ultrafialové žiarenie s vysokou numerickou apertúrou v Severnej Amerike (NA - EUV) litografické centrum.
Očakáva sa, že nové zariadenie sa bude v budúcnosti ďalej rozširovať, čo podporí rast budúcich partnerov a podporí nové iniciatívy, ako je Národné centrum polovodičových technológií, Národný program výroby pokročilých obalov a Program zdieľania mikroelektroniky Ministerstva obrany.
Extrémna ultrafialová (NA - EUV) litografia s vysokou numerickou apertúrou je kľúčom k novej generácii (2nm a menej) špičkovej procesnej výrobe čipov. Tentoraz sa štát New York spojil s americkými a japonskými výrobcami polovodičov, aby založili High-NA EUV Semiconductor Research and Development Center, hlavne v nádeji, že pomôžu ďalej posilniť domácich výrobcov v USA s cieľom zlepšiť dizajn a výrobné možnosti v oblasti rezania- okrajové polovodičové procesy, ktoré dúfajú, že získajú finančnú podporu prostredníctvom zákona o čipoch. Štátni úradníci tiež ponúkli stimuly pre tieto výrobné zariadenia.
Očakáva sa, že NY Creates, nezisková organizácia zodpovedná za koordináciu výstavby zariadenia, použije 1 miliardu dolárov zo štátnych fondov na nákup litografického zariadenia TWINSCAN EXE:5200 od ASML, uvádza sa vo vyhlásení. Po nainštalovaní zariadenia budú môcť zúčastnení partneri začať pracovať na výrobe čipov novej generácie. Program vytvorí 700 pracovných miest a vygeneruje súkromné ​​investície v hodnote najmenej 9 miliárd USD.
Ako bolo naplánované, NY CREATES zakúpi a nainštaluje extrémne ultrafialový (NA - EUV) litografický nástroj s vysokou numerickou apertúrou navrhnutý a vyrobený spoločnosťou ASML. Prístroj je nabitý technológiou, pri ktorej lasery mimo UV spektra leptajú dráhy v obvodoch v miniatúrnom meradle. Pred desiatimi rokmi bol tento proces prvýkrát schopný leptať cesty pre 7- a 5-procesy nanometrových čipov a teraz existuje potenciál na vývoj a výrobu čipov menších ako 2-nanometrický uzol – prekážku, ktorú IBM prekonala už v roku 2021.
Zariadenia EUV, ktoré sa v súčasnosti používajú na trhu a v priemysle, nie sú schopné produkovať rozlíšenie požadované pre sub{0}}nm uzly na výrobu čipov spôsobom, ktorý by uľahčil masovú výrobu. Podľa IBM, zatiaľ čo súčasné stroje dokážu poskytnúť potrebnú úroveň presnosti, sú potrebné tri až štyri ožiarenia EUV svetlom namiesto jedného. Zvýšenie vysokej NA umožňuje vytvorenie väčšej optiky, ktorá podporuje tlač vzorov s vyšším rozlíšením na doštičky.
Zatiaľ čo výskumníci budú musieť vziať do úvahy malú hĺbku ostrosti spôsobenú zväčšenou clonou, IBM a jej partneri veria, že táto technológia by mohla v blízkej budúcnosti podporiť prijatie efektívnejších čipov.
Na strane talentov program zahŕňa aj partnerstvo so Štátnou univerzitou v New Yorku na podporu a budovanie ciest rozvoja talentov.